超纯水设备大师工业电子用水标准与工艺革新
在中国,国家电子超纯水的标准GB/T1146.1-1997必须严格遵循。这些技术指标包括四个级别:EW-I、EW-II、EW-III和EW-IV,每个级别都有不同的电阻率要求,从18MΩ·cm到15MΩ·cm,再到13MΩ·cm以及更低的值。此外,还有对硅含量、微粒数、细菌数量以及多种金属离子的限制。例如,对于硅的上限是2µg/l,对于微粒数则不得超过0.1个/ml。
为了达到这些高标准,电子级超纯水设备采用了各种先进工艺。在美国ASTM标准和中国电子部超纯水质量标准(包括18MΩcm, 15MΩcm, 2MΩcm和0.5MΩcm四个等级)的指导下,这些设备通常包含以下步骤:
首先,通过预处理来去除水中的杂质,然后使用反渗透技术进一步净化。接着,将水存储在中间或纯化后的箱子中,以保持质量稳定。接下来,是阳光曝晒床和阴影曝晒床,以消除任何残留的活性物质。此后,混合床帮助提高整体效率,而紫外线杀菌器确保没有细菌或病毒能够生存。
最后,在精制混床中再次过滤,并通过0.2或0.5μm的精密过滤器以最终实现清洁度。这套系统不仅适用于半导体制造,也广泛应用于实验室、中试车间、高科技产品生产,如汽车表面抛光过程,以及其他需要极高清洁水平的情况。
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